




真空鍍膜技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域
在平板顯示器中
所有各類平板顯示器都要用到各種類型的薄膜,而且,幾乎所有類型的平板顯示器件都需要使用ITO膜,以滿足透明電器的要求??梢院敛豢鋸埖恼f,沒有薄膜技術(shù),就沒有平板顯示器件。
在太陽能利用方面
當(dāng)需要有效地利用太陽熱能時,就要考慮采用對太陽光線吸收較多、而對熱輻射等所引起的損耗較小的吸收面。以上是由艾明坷科技有限公司發(fā)表內(nèi)容,如有需要,歡迎新老客戶蒞臨。太陽光譜的峰值大約在波長為2-20μm之間的紅外波段。由于太陽輻射與熱輻射光譜在波段上有差異,因此,為了有效地利用太陽熱能,就必須考慮采用具有波長選擇特性的吸收面。
理想的選擇吸收面,是太陽輻射光譜的波段(可見光波段)吸收率(α)為1,在熱輻射波段(紅外波段)輻射率(ε)為0。
在防偽技術(shù)中
防偽膜種類很多,從使用方法可分為反射式和透射式;從膜系附著方式可以分為直接鍍膜式、間接鍍膜式或間接鍍膜剪貼式。
在飛機防護涂層方面
飛機的鈦合金緊固件,原來采用電鍍方法鍍鎘。但在鍍鎘中含有氫,所以在飛行過程中,受到大氣、海水的腐蝕,鍍層上容易產(chǎn)生“鎘脆”,甚至引起“空難”。
1964年,采用離子鍍方法在鈦合金緊固件上鍍鋁,解決了飛機零件的“鎘脆”問題。在離子鍍技術(shù)中,由于給工件施加負(fù)偏壓,可以形成“偽擴散層”、細(xì)化膜層組織,因此,可以顯著提高膜層的耐腐蝕性能。
在光學(xué)儀器中
人們熟悉的光學(xué)儀器有望遠(yuǎn)鏡、顯微鏡、照相機、測距儀,以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等,它們都離不開鍍膜技術(shù),鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。
在信息存儲領(lǐng)域中
薄膜材料作為信息記錄于存儲介質(zhì),有其得天獨厚的優(yōu)勢:
由于薄膜很薄,可以忽略渦流損耗;磁化反轉(zhuǎn)極為迅速;與膜面平行的雙穩(wěn)態(tài)狀態(tài)容易保持等。
為了更精密地記錄與存儲信息,必然要采用鍍膜技術(shù)。
在傳感器方面
在傳感器中,多采用那些電氣性質(zhì)相對于物理量、化學(xué)量及其變化來說,極為敏感的半導(dǎo)體材料。此外,其中,大多數(shù)利用的是半導(dǎo)體的表面、界面的性質(zhì),需要盡量增大其面積,且能工業(yè)化、低價格制作,因此,采用薄膜的情況很多。
在集成電路制造中
晶體管路中的保護層(SiO2、Si3N4)、電極管線等,多是采用CVD技術(shù)、PVCD技術(shù)、真空蒸發(fā)金屬技術(shù)、磁控濺射技術(shù)和射頻濺射技術(shù)??梢姡瑲庀喑练e是制備集成電路的核心技術(shù)之一。
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真空鍍膜機的真空室設(shè)計方法
真空鍍膜技術(shù)是在真空條件下采用物理或者化學(xué)方法,使物體表面獲取所需膜體,真空鍍膜技術(shù)根據(jù)其采用方法的不同科分成蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積以及分子束外延等,這次分析的鍍膜設(shè)備采用的是磁控濺射鍍膜。
真空室是真空設(shè)備的一個主要組成部位,真空鍍膜設(shè)備真空室設(shè)計主要考慮的就是密封性和可靠性,結(jié)構(gòu)必須要合理,真空設(shè)備的材料生產(chǎn)都是在真空室內(nèi)進行的,材料對真空度的影響要小,設(shè)計不能馬虎,要注意一些問題。
使用磁控濺射的真空鍍膜機一般采用的是圓筒主體結(jié)構(gòu),結(jié)構(gòu)上要保證快速抽空,因氣袋會緩慢的放氣,因此要避免出現(xiàn)隔離孔穴,真空系統(tǒng)上端會加裝磁控濺射槍,為了使真空室和元件有足夠的強度,保證在外部和內(nèi)部的作用力下不產(chǎn)生形狀的變化,厚度需要足夠。
焊接是真空室制造中的一道關(guān)鍵工序,保證焊接之后的真空室不會產(chǎn)生漏氣現(xiàn)象,須合理設(shè)計焊接結(jié)構(gòu),提高焊接質(zhì)量,處在超高真空的內(nèi)壁粗糙度要拋光使室外室內(nèi)表面很光潔,須特別注意的是需做好防止生銹的措施。
真空鍍膜設(shè)備真空泵的選擇
正確地組合真空泵。真空鍍膜機的詳細(xì)結(jié)構(gòu)高真空鍍膜機,鍍膜機是目前制作真空條件應(yīng)用為廣泛的設(shè)備。由于真空泵有選擇性抽氣,因而,有時選用一種泵不能滿足抽氣要求,需要幾種泵組合起來,互相補充才能滿足抽氣要求。另外,有的真空泵不能在大氣壓下工作,需要預(yù)真空;有的真空泵出口壓強低于大氣壓,需要前級泵,故都需要把泵組合起來使用。
正確地選擇真空泵的工作點。真空鍍膜機廠家介紹在檢漏的過程中,需求注意一些問題,才能把檢漏作業(yè)做好。每種泵都有一定的工作壓強范圍,如:2BV系列水環(huán)真空泵工作壓強范圍760mmHg~25mmHg(絕壓),在這樣寬壓強范圍內(nèi),泵的抽速隨壓強而變化(詳細(xì)變化情況參照泵的性能曲線),其穩(wěn)定的工作壓強范圍為760~60mmHg。因而,泵的工作點應(yīng)該選在這個范圍之內(nèi)較為適宜,而不能讓它在25~30mmHg下長期工作。
真空泵排出來的油蒸氣對環(huán)境的影響如何。如果環(huán)境不允許有污染,可以選無油真空泵,或者把油蒸氣排到室外。
真空泵的工作壓強應(yīng)該滿足真空設(shè)備的極限真空及工作壓強要求。如:某真空干燥工藝要求10mmHg的工作真空度,選用的真空泵的極限真空度至少要2mmHg,1好能達(dá)到1mmHg。通常選擇泵的極限真空度要高于真空設(shè)備工作真空度半個到一個數(shù)量級。
真空鍍膜機檢漏
要承認(rèn)漏氣究竟的虛漏仍是實漏,因為工件資料加熱后都會在不同程度上發(fā)生氣體,有也許誤以為是從外部流進的氣體,這即是虛漏,要掃除這種狀況。
第二,測驗好真空室的氣體密封功能,確保氣密功能符合要求。
第三,查看漏孔的巨細(xì),形狀、方位,漏氣的速度,制備出可處理方案并施行。
第四,斷定檢查儀器的1小可檢漏率和檢漏靈敏性,以1大規(guī)模的檢查出漏氣狀況,防止一些漏孔被疏忽,進步檢漏的準(zhǔn)確性。
第五,掌握檢漏儀器的反應(yīng)時刻和消除時刻,把時刻掌握好,確保檢漏儀器作業(yè)到位,時刻少了,檢漏作用必定差,時刻長了,糟蹋檢漏氣體和人工電費。
第六,還要防止漏孔阻塞,有時因為操作失誤,檢漏過程中,一些塵?;蛞后w等把漏孔阻塞了,以為在該方位沒有漏孔,但當(dāng)這些阻塞物因為內(nèi)外壓強區(qū)別進步或別的緣由使漏孔不堵了,那漏氣仍是存在的。
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